Ultraviolet fire-bølge interferometrisk sensor

I hjertet af FIS4 UV Wavefront-sensoren ligger Bojiongs banebrydende randomiserede kodning af fire bølgediffraktionsteknologi. Denne banebrydende teknologi muliggør interferens på bagfokalflyet, selv med minimal lyskilde -kohærens, hvilket reducerer begrænsninger på lyskilde sammenhængende og effektivt eliminerer kravet om faseskift. Integreret med et avanceret ultraviolet billeddannelsessystem tilbyder FIS4 UV Wavefront-sensoren realtidsbølgefrontmålingsfunktioner, der udviser enestående vibrationsmodstand og robusthed. Imponerende opnår det nanometerskala præcision, selv uden vibrationsisoleringssystemer. Denne kapacitet åbner nye muligheder for målinger med høj præcision i forskellige og krævende miljøer. Bojiong Optoelectronics er indstillet til at revolutionere den optiske præstationsmåling og -analyse, der leder industrien mod en hidtil uset æra med præcision og effektivitet. Ved at indstille nye benchmarks for nøjagtighed og operationel lethed giver FIS4 UV Wavefront -sensoren forskere og industrier til at skubbe grænserne for optisk innovation.

Specifikation ：

Funktion af Bojiong Fis4 UV Wavefront -sensor

◆ UV Spectrum 200NM ~ 400NM Band

◆ 2nm RMS -opløsning

◆ 100% indenlandsk udviklet

Pr

◆ Ekstremt stærk vibrationsmodstand, ikke behov for optisk vibrationsisolering

◆ Med laserinterferensen Fringe Suppression Design

◆ Supportkollimerede bjælker, høje NA-ikke-kollimerede bjælker

  Anvendelse af Bojiong Fis4 UV Wavefront -sensor

Denne Bojiong FIS4 UV -bølgefrontsensor anvendt til aberrationsmåling af optisk system, optisk systemkalibrering, flad (wafer) overfladeformmåling, optisk sfærisk overfladeformmåling osv.

Bojiong FIS4 UV Wavefront Sensor Detaljer

Bojiong FIS4 UV Wavefront Sensor blev udviklet af et team af professorer fra Zhejiang University og Nanyang Technological University, Singapore. Det har en ultrahøj opløsning på 512 × 512 (262144) fasepunkter og kan opnå en højpræcisionsbølgefrontmåling i 200nm til 400NM-båndet. Det kan bruges til aberrationsmåling af optisk system, optisk systemkalibrering, plan (wafer) overflademåling, optisk sfærisk overflademåling osv.

FIS4 UV kombinerer den patenterede tilfældige kodede fire-bølgediffraktionsteknologi med UV-kameraet og forstyrrer i den bageste billedplan. Det har lave krav til lyskilde sammenhæng og kræver ikke faseskift. Det kan opnå realtidsbølgefrontmåling med UV-billeddannelsessystemet. Det har ultrahøj vibrationsmodstand og ultrahøj stabilitet og kan opnå NM-niveau præcisionsmåling uden vibrationsisolering.