Nær-infrarød bølgefrontsensor

Den nær-infrarøde bølgefrontsensor med et imponerende dynamisk område på op til 270 μm. Den kan prale af enestående vibrationsmodstand og stabilitet, hvilket muliggør præcisionsmålinger på nanometerniveau uden behov for vibrationsisolering. Dette instrument er velegnet til at måle den interne gitterfordeling af materialer, samt bølgefrontmålinger for metasurfaces og hyperlinser. Vi vil altid overholde princippet om "kvalitet først, kunde først," og vi inviterer hjerteligt kunder til at besøge os til høring.

Varespecifikation:

Funktion af BOJIONG nær-infrarød bølgefrontsensor

◆ Stort dynamisk område op til 270 μm

◆2nm RMS høj fase opløsning

◆Ultrahøj opløsning på 512×512 (262144) fasepunkter

◆ Enkeltkanals lys selvinterferens, intet referencelys påkrævet

◆ Bredt spektrum 900nm ~ 1200nm bånd

◆ Ekstremt stærk anti-vibrationsydelse, intet behov for optisk vibrationsisolering

◆Ligesom billedbehandling, nem og hurtig optisk vejkonstruktion

◆ Understøtter kollimerede stråler og store NA konvergerede stråler

 Anvendelse af BOJIONG nær-infrarød bølgefrontsensor

Denne BOJIONG nær-infrarøde bølgefrontsensor, der bruges til optisk systemaberrationsmåling, optisk systemkalibrering, måling af intern materialegitterfordeling, hyperoverflade, hyperlensebølgefrontmåling

BOJIONG nær-infrarød bølgefrontsensor detaljer

BOJIONG Near-Infrared Wavefront Sensor udviklet af et team af professorer fra Zhejiang University og Nanyang Technological University of Singapore, med indenlandsk patenteret teknologi, den kombinerer diffraktion og interferens for at opnå en fælles fire-bølge tværgående forskydningsinterferens med overlegen detektionsfølsomhed og anti- vibrationsydelse, og kan realisere realtid og højhastigheds dynamisk interferometri uden vibrationsisolering. Realtidsmålingen viser en billedhastighed på mere end 10 billeder. Samtidig har FIS4-sensoren en ultrahøj faseopløsning på 512×512 (260.000 fasepunkter), målebåndet dækker 200nm~15μm, målefølsomheden når 2nm, og målingens repeterbarhed er bedre end 1/1000λ ( RMS). Det kan bruges til laserstrålekvalitetsanalyse, plasmaflowfeltdetektion, realtidsmåling af højhastighedsflowfeltfordeling, billedkvalitetsevaluering af optisk system, mikroskopisk profilmåling og kvantitativ fasebilleddannelse af biologiske celler.